魯汶儀器致力于為12英寸及8英寸集成電路制造線提供先進(jìn)的裝備和工藝解決方案。針對(duì)邏輯、存儲(chǔ)、功率器件、光學(xué)、微顯示等領(lǐng)域的關(guān)鍵工藝道次，魯汶儀器研發(fā)了一系列12英寸及8英寸等離子體刻蝕系統(tǒng)、薄膜沉積系統(tǒng)，以及氣相分解金屬沾污收集系統(tǒng)（VPD），為客戶提升產(chǎn)能、優(yōu)化工藝提供穩(wěn)定可靠的設(shè)備與完善的技術(shù)支持。